Litografi
Sistemleri

Neden Litografi ?

Tek katmanlı ince filmler ile aygıt üretimi gerçekleştirilemez. Transistör, Led, fotodetektör, Kamera gibi yarı iletken aygıtların üretimi için alttaş (wafer) ve katmanların desenlenerek kaplama ya da aşındırma işlemleri uygulanması zorunludur. 

Litografi işlemi temel olarak geometrik şekillerin alttaş üzerine geçirilmesi işlemidir. Modern yarı iletken aygıt üretiminde UV radyasyon ile makse (dijital yada mekanik) üzerindeki desenler alttaş (wafer) üzerindeki fotoresiste geçirilir ve kaplama ya da aşındırma aşamaları ile tasarlanan yarı iletken aygıt üretimi gerçekleşir. Karmaşık bir CMOS yapı için bu işlem 50 kez kadar yapılır.  

 

  • Maske Hizalama Fotolitografi Sistemleri

  • Döndürerek kaplama sistemleri ( çok yakında)

Maske Hizalama Fotolitografi Sistemleri

Lithorium Mask Aligner litografi istemi, yarı iletken ve mikro aygıt üretimi için araştırma ve geliştirme çalışmalarında kullanılması amacıyla düşük maliyetli bir sistemdir. Uluslararası platformlarda kullanılan cihaz ve ekipmanların çıktıları göz önünde bulundurularak yapılan özgün tasarım ile kullanıcı dostu olması ve düşük altyapı maliyeti getirmektedir.

lima copy.jpg

Döndürerek Kaplama Sistemleri

Döndürerek kaplama düz yüzeyler, alttaş (wafer) gibi malzemelerin yüzeyine uygulanan akışkan malzemenin yüksek hızlarda döndürerek yüzeye ince film oluşması prensibine dayanır. 

Döndürerek kaplama (spin coater), malzemeleri  doğru ve kontrol edilebilir film kalınlıklarıyla alttaş ya da düz malzeme yüzeyine ince film sermek için yaygın olarak kullanılan ve çok yönlü bir tekniktir.

Spin_coater_V2-2-2.jpg